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华为专利对标|导热硅脂用SiC添加剂,解锁高端散热新高度

​在高端电子、AI芯片、新能源汽车等精密器件领域,散热效率直接决定产品性能与使用寿命,而导热硅脂的核心竞争力,始终聚焦于碳化硅(SiC)添加剂的选型与品质。华为作为高端电子领域的标杆,其公开的两项核心导热专利(《导热组合物及其制备方法》《一种导热吸波组合物》),为SiC添加剂选型确立了行业金标准,而鬃

2026-04-09
鬃晶科技 纯 3C 相碳化硅纳米粉(3C 相 > 99%)—— 高端应用案例精选

​鬃晶科技纯 3C‑SiC 纳米粉(3C 相含量>99%、纳米级、低氧高纯),凭借各向同性、高烧结活性、高导热、高绝缘 / 导电可控、超纯稳定的核心优势,已在第三代半导体、电子封装、新能源、高端陶瓷、精密抛光、航空航天等领域落地标杆应用,解决传统 SiC 杂相、各向异性、性能不均痛点,成为高端制造核心

2026-04-07
纯 3C 相(β 相)碳化硅纳米粉助力高端材料应用!

​鬃晶科技纯 3C 相(β 相)碳化硅纳米粉,3C 相含量>99%,以超高纯相、纳米尺度、低氧高纯特性,实现结构与性能双重突破,成为第三代半导体、高端陶瓷、电子封装、热管理领域的核心材料。一、晶相纯度:>99% 纯 3C 相,性能极致均一鬃晶科技突破晶相控制技术,3C 相纯度稳定大于 99%,无 α-

2026-04-07
低氧赋能・极致纯净 —— 鬃晶科技 β‑SiC 微粉氧含量低至 0.2%,重塑高端碳化硅材料新标杆

​在第三代半导体、高端结构陶瓷、高导热基板及高纯冶金等关键领域,碳化硅粉体的纯度与氧含量,已成为决定材料最终性能的核心命脉。鬃晶科技聚焦高端 β‑SiC 粉体技术突破,凭借独创的合成与深度脱氧工艺,成功将 β‑SiC 微粉氧含量稳定控制在0.2% 以下,以极致纯净的粉体品质,破解高氧杂质带来的烧结缺陷

2026-04-03
高纯低氧高β相β-SiC纳米粉:性能与应用

​高纯、低氧、高β相含量的β-SiC纳米粉,核心好处是:烧结活性极高、致密度高、热导率/电导率优异、力学性能强、高温稳定、杂质缺陷少、可用于半导体/结构陶瓷/复合材料等高端场景。一、三个核心指标的作用1. 高纯度(≥99.9%) 减少杂质散射:金属/非金属杂质(Fe、Al、Ca、游离

2026-04-03

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